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CVD系统O1200-XITD3F

文章来源:澳门金莎娱乐网站 发布时间:2017-11-16  浏览次数:5310

设备简介:

化学气相沉积(CVD)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法,是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积薄膜材料的技术,包括大范围的绝缘材料,以及大多数金属材料和金属合金材料。为此我们研发成套的CVD镀膜系统,适用于各大高校材料实验室、科研院所、环保科学等领域。



             


 

 

 



配置详情

系统描述

产品型号

NBD-O1200-XIT(炉管直径50、60、80、100mm可。

工作温度

≤1150℃

加热区尺寸

440mm

升温速率

≤20℃/s

电气规格

AC 220V  4KW

气体系统(可选购)

流量计类型

浮子流量计

质量流量计

管道示意图

 

 

进气接口数量

2、3、4(多路可。

流量范围

20-250/20-800ml/min(多量程可选)

50/100/200sccm(多量程可选)

工作压差范围

0-0.15MPa

低真空系统(可选购)

真空泵型号

NBD-1.5C

NBD-3C

NBD-4C

抽气速率

1L/s

3L/s

4L/s

进排气口尺寸

Φ8mm宝塔接头

Φ8mm宝塔接头

KF16/25

极限压力

1000Pa

100Pa

10Pa

工作温度

5-40℃

电气规格

AC220V

高真空系统(可选购)

真空泵型号

NBD-103(A)

NBD-103(B)

NBD-103(C)

抽气速率

110L/s

600L/s

700L/s

真空测量计

复合真空计

极限压力

10^-3Pa

10^-4Pa

10^-5Pa

工作温度

5-40℃

电气规格

AC 220V

AC 220V

AC 380V

* 支持非标定做,更多型号,欢迎来电垂询400-000-3746


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